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研發(fā)用晶圓曝光系統(tǒng)
新設備:研發(fā)用晶圓曝光系統(tǒng)(掩模對準器);制造商:日本制造商,概述:研究開發(fā),到小批量生產(chǎn)為止可以對應多種用途、選擇硬接
2023-10-11
402 2 0其他晶圓曝光系統(tǒng)
新設備:晶圓曝光系統(tǒng)(掩模對準器);制造商:日本制造商,概要:采用為高清晰曝光優(yōu)化的獨特UV光學系統(tǒng)和可高精度平行化光掩模和
2023-10-11
430 2 0其他300mm大批量立式爐VF-5700
新設備:300mm大批量立式爐VF-5700;制造商:日本制造商,簡介:Si-IGBT用的數(shù)+μ厚晶片也能放心搬運的裝置陣容。低溫控制性優(yōu)異
2023-09-19
3585 28 7其他表面活性化接合裝置
新設備:表面活性化接合裝置:制造商:日本制造商,實現(xiàn)了在常溫下能得到塊狀破壞強度的晶圓接合。從研究開發(fā)用接合裝置到量產(chǎn)用
2023-09-15
378 2 0其他陽極接合裝置
新設備:陽極接合裝置:制造商:日本制造商,在Si上接合派雷克斯等玻璃。是MEMS的接合中使用最多的接合之一。最近也實現(xiàn)了低溫接
2023-09-13
3459 17 6其他
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